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Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten

Plasma-CVD von FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

FAP Forschungs- und Applikationslabor Plasmatechnik GmbH Dresden

01217-G Dresden
        67 Gostritzer Straße

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Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten


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Description
Entwicklung, Fertigung und Lieferung von Reaktoren/Elektroden- systemen für Load Lock-, Cluster- und In line- Systeme mit Technologieinstallation zur • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten mit Abmessungen bis 1 m², Betriebsfrequenz bis 80 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf zylindrischen Substraten, Betriebsfrequenz bis 27,12 MHz • Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten auf ebenen Substraten bei kontinuierlicher Substratbewegung, Betriebsfrequenz bis 80 MHz.
Productparameter

Auf ebenen Substraten mit Abmessungen bis 1 m²

Betriebsfrequenz bis 80 MHz

Images

Plasma-CVD von elektronisch hochwertigen Schichten


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